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7 小时前
IT之家
ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体
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ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体 - IT之家
综合体监管方 NY Creates 总裁兼首席执行官 Dave Anderson 表示该设备“确实会改变我们未来的业务范围以及美国的研发活动”,“我们实际上正处于下一代技术发展的中心”。
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