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御微半导体:国内首款可完整覆盖 90~28nm 掩模图形缺陷检测设备发运国内头部晶圆厂
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御微半导体:国内首款可完整覆盖 90~28nm 掩模图形缺陷检测设备发运国内头部晶圆厂 - IT之家
掩模版是芯片光刻环节的核心“母版”,它的品质直接左右整片晶圆的生产良率。细微的图形缺陷,都有可能造成整批晶圆全部报废。
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