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华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发
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华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发 - IT之家
华为海外 X 账号昨日发布了 9 月 29 日的国际媒体圆桌会议摘要。在被问及关于 AI、硬件与 EUV 的问题时,余承东表示,极紫外光刻(EUV)设备当然是制造先进芯片的关键。中国目前正在研发这些设备,但现阶段国内仍然依靠深紫外光刻(DUV)。逻辑折叠(LogicFolding)技术,是在获取某些技术受到限制的情况下,用来提升能力的一种方法。
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